งานฝีมือ

Teri W. Odom รองศาสตราจารย์ด้านเคมีและศาสตราจารย์ด้านการวิจัยของ Dow Chemical Company ใน Weinberg College of Arts and Sciences กล่าวว่า "ใครก็ตามที่ต้องการเข้าถึงรูปแบบระดับนาโนในพื้นที่ขนาดใหญ่ในราคาถูกจะได้รับประโยชน์จากวิธีนี้" Odom เป็นผู้นำการวิจัย "เป็นวิธีการสร้างรูปแบบนาโนที่ง่าย ต้นทุนต่ำ และปริมาณงานสูง ซึ่งสามารถทำได้ในห้องปฏิบัติการใดก็ได้" รายละเอียดของวิธีการนูนระดับนาโน (SANE) ที่ใช้ตัวทำละลายช่วยเผยแพร่โดยวารสารNano Letters งานนี้จะปรากฏเป็นเรื่องราวปกของวารสารฉบับเดือนกุมภาพันธ์ 2554 วิธีนี้นำเสนอโอกาสที่ไม่เคยมีมาก่อนในการจัดการกับคุณสมบัติทางอิเล็กทรอนิกส์ โทนิค และแม่เหล็กของวัสดุนาโน นอกจากนี้ยังควบคุมขนาดและสมมาตรของรูปแบบได้อย่างง่ายดาย และสามารถใช้เพื่อสร้างสำเนาของรูปแบบนับล้านบนพื้นที่ขนาดใหญ่ การใช้งานที่เป็นไปได้รวมถึงอุปกรณ์ที่ใช้ประโยชน์จากรูปแบบนาโน เช่น เซลล์แสงอาทิตย์ จอแสดงผลความหนาแน่นสูง คอมพิวเตอร์ และเซ็นเซอร์เคมีและชีวภาพ "ไม่มีวิธีนาโนรูปแบบอื่นที่มีอยู่แล้วที่สามารถสร้างต้นแบบรูปแบบตามอำเภอใจด้วยการแยกขนาดเล็กและทำซ้ำได้บนแผ่นเวเฟอร์ขนาด 6 นิ้วในราคาต่ำกว่า 100 ดอลลาร์" Odom กล่าว งานฝีมือ เริ่มต้นด้วยรูปแบบต้นแบบเดียว วิธีการง่ายๆ แต่อาจเปลี่ยนแปลงได้สามารถใช้เพื่อสร้างต้นแบบระดับนาโนใหม่ที่มีระยะห่างและขนาดคุณลักษณะที่ผันแปรได้ SANE สามารถเพิ่มระยะห่างของรูปแบบได้ถึง 100 เปอร์เซ็นต์และลดลงถึง 50 เปอร์เซ็นต์ในขั้นตอนเดียว เพียงแค่ยืดหรือให้ความร้อน (หดตัว) พื้นผิวโพลิเมอร์ (วัสดุ Shrinky Dinks) นอกจากนี้ SANE ยังสามารถลดขนาดคุณลักษณะที่สำคัญให้เล็กลงได้ถึง 45 เปอร์เซ็นต์เมื่อเทียบกับต้นแบบโดยควบคุมการบวมของแม่พิมพ์โพลิเมอร์ที่มีลวดลายด้วยตัวทำละลายที่แตกต่างกัน SANE ทำงานตั้งแต่ระดับนาโนไปจนถึงระดับมหภาค ตอนนี้นักชีววิทยา นักเคมี และนักฟิสิกส์ที่ไม่คุ้นเคยกับการทำลวดลายนาโนสามารถใช้ SANE สำหรับการวิจัยในระดับนาโนได้แล้ว ผู้ที่ทำงานเกี่ยวกับพลังงานแสงอาทิตย์ การจัดเก็บข้อมูล และพลาสโมนิกส์จะพบว่าวิธีการนี้มีประโยชน์อย่างยิ่ง Odom กล่าว ตัวอย่างเช่น ในแอปพลิเคชันพลาสโมนิคส์ Odom และทีมวิจัยของเธอใช้ความสามารถในการสร้างรูปแบบเพื่อสร้างอาร์เรย์ของอนุภาคนาโนโลหะที่มีการแยกตัวแปรอย่างต่อเนื่องบนวัสดุพิมพ์เดียวกัน SANE นำเสนอวิธีที่จะพบกับความท้าทายที่ยิ่งใหญ่สามประการในการผลิตชิ้นส่วนนาโนจากรูปแบบหลักเดียวกันและรูปแบบเดียว: (1) การสร้างความหนาแน่นของอาร์เรย์ที่ตั้งโปรแกรมได้ (2) การลดขนาดคุณลักษณะที่สำคัญ และ (3) การออกแบบสมมาตรขัดแตะที่แตกต่างกันและกำหนดค่าใหม่ได้ ในพื้นที่ขนาดใหญ่และขนานกันอย่างมาก